语言 :
UV激光曝光系统
产品介绍
产品特点
扫描曝光方式特点:
1.光束垂直高度＜=0.23°；
2.工作幅面一般100mm×100mm,可定制；
3.光斑能量密度高；
4.不需掩膜，可精确曝光三维图形；
5.可快速修改任意曝光图形。
掩膜曝光方式特点：
1.光束直径可达φ100mm,可定制；
2.光束发散角小，光束准直度可达到5µrad;
3.可精确曝光三维图形；
4.对环境温度要求不高。
1.光束垂直高度＜=0.23°；
2.工作幅面一般100mm×100mm,可定制；
3.光斑能量密度高；
4.不需掩膜，可精确曝光三维图形；
5.可快速修改任意曝光图形。
掩膜曝光方式特点：
1.光束直径可达φ100mm,可定制；
2.光束发散角小，光束准直度可达到5µrad;
3.可精确曝光三维图形；
4.对环境温度要求不高。
产品参数
产品应用
应用领域：FPC、数码产品、印刷等。
样品图片
